Low Energy Arsenic Implanted Silicon (Level:6×1014 atoms/cm2)|Low Energy Arsenic Implanted Silicon (Level:6×1014 atoms/cm2)|认证标准物质(NMIJ CRM) 发表于2024年1月23日由上海金畔生物科技有限公司 Low Energy Arsenic Implanted Silicon (Level:6×1014 atoms/cm2) 货号:631-23091包装:1片 材料标准物质 低能量砷注入硅片(能级:6×1014 atoms/cm2) 认证标准物质 产品详情 请致电<b>021-50837765</b> ,或登录Wako、Reagecon官方网站获取详细技术支持。