AL2O3+Al(0.1)Ga(0.9)N 薄膜

AL2O3+Al(0.1)Ga(0.9)N 薄膜

Al2O3+Al0.1GaN0.9 薄膜N型不掺杂(Al0.1GaN0.9 epitaxial template on Sapphire  N type )

产品介绍

产品名称 Al2O3+Al0.1GaN0.9 薄膜N型不掺杂(Al0.1GaN0.9 epitaxial template on Sapphire  N type ) 常规尺寸 dia2",单抛 标准包装 1000级超净室及100级超净纸真空包装或单片盒装 技术参数 Al2O3晶向: c-axis (0001) +/- 1.0 o 导电类型: N 型不掺杂 薄膜厚度: 5um,研究级,单抛 电阻率: < 0.5 Ohm-cm 正面Ga面情况: As-grown 反面情况: as-received finish 可用区域: >90% ;Edge Exclusion Area 1mm
参数信息
外观状态: 固体或粉末
质量指标: 95%+
溶解条件: 有机溶剂/水
CAS号: N/A
分子量: N/A
储存条件: -20℃避光保存
储存时间: 1年
运输条件: 室温2周
生产厂家: 上海金畔生物科技有限公司