POSS@SiO2nm纳米二氧化硅分散环氧笼形倍半硅氧烷

POSS@SiO2nm纳米二氧化硅分散环氧笼形倍半硅氧烷

Nosilica Dispersion Epoxy POSS,纳米级SiO2修饰的环氧笼形倍半硅氧烷

产品介绍

纳米二氧化硅分散体是两种增强剂合一。纳米二氧化硅分散环氧笼形倍半硅氧烷是一种杂化的1.5nm分子,其核心是无机倍半硅氧烷,骨架的角上附着有机缩水甘油基,起到多功能交联剂的作用。重量百分比为30%的20nm纳米二氧化硅完全分散在环氧笼形倍半硅氧烷中,形成一种无色透明液体,很容易与其他系统混合。作为芳香族和脂肪族环氧树脂中的高温活性稀释剂,可降低40%-70%的粘度。EP0409可与脂肪胺配制成低粘度、室温固化和高密度脂蛋白复合树脂和粘合剂。POSS分子还具有强大的抗环境退化能力,如水分、氧化、腐蚀和各种类型的辐射。30%的二氧化硅对增强效果的改善更大。
参数信息
外观状态: 固体或粉末
质量指标: 95%+
溶解条件: 有机溶剂/水
CAS号: N/A
分子量: N/A
储存条件: -20℃避光保存
储存时间: 1年
运输条件: 室温2周
生产厂家: 上海金畔生物科技有限公司