二硫化钨(WS2)CVD薄膜

二硫化钨(WS2)CVD薄膜

Tungsten disulfide cvd film 化学气相沉积法制造 尺寸可订且提供多种基底

产品介绍

形貌可提供单层三角单晶晶粒,单层连续薄膜,多层连续薄膜

基底可提供:SiO2/Si、蓝宝石、云母、玻璃、铜模等等

尺寸:10*10mm,15*15mm,20*20mm,2英寸圆片,4英寸圆片 或客户指定的定制尺寸。

产品主要应用于光电器件,微电子器件,生物传感,化学传感等领域。

二硫化钨(WS2)CVD薄膜
参数信息
外观状态: 固体或粉末
质量指标:
溶解条件: 有机溶剂/水
CAS号: N/A
分子量: N/A
储存条件: -20℃避光保存
储存时间: 1年
运输条件: 室温2周
生产厂家: 上海金畔生物科技有限公司